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16 처지: 도구, 마이크로미터, 모노, 박막 트랜지스터, 강자성, 기판, 스퍼터링, 장력, 인라인, 정확도와 정밀도, 태양 전지, 수축, 선형, 세라믹, 센티미터, 화학기상증착.
도구
장도리는 도구의 일종이다. 도구(道具)는 어떤 일을 할 때 이용하는 소규모 장치를 말. 도구를 활용함으로써 사람이 일을 할 때 노력을 덜 들이고 편하게 할 수 있. 예를 들면 음식을 만들 때 사용하는 칼이나 식사를 할 때 사용하는 수저가 그 예. 칼은 음식을 자를 때에 도움을 주고 수저는 뜨거운 음식을 먹을 때 손을 보호.
마이크로미터
소섬유 (6µm)와 사람의 머리카락(50µm)의 두께 비교 마이크로미터(단위: µm)는 미터의 백만분의 일에 해당하는 길이의 단위이.
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모노
모노(mono)는 "하나"를 의미하는 그리스어의 접두사이.
박막 트랜지스터
박막 트랜지스터(薄膜-, Thin Film Transistor, TFT)는 전계효과 트랜지스터(Field Effect Transistor, FET)의 한 종류로 박막(Thin Film)의 형태로 되어 있. 기본적으로 삼 단자 소자(백 게이트(B)가 존재하지 않음)로 되어 있. 주로 액정 디스플레이에 응용되고 있. 반도체 활성층으로 CdSe를 사용한 TFT는 고체 촬상 소자용 1949년에 발표되었으며, 1973년에 액정 디스플레이(LCD)를 구동하는 예가 발표되었.
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강자성
강자성(強磁性)이란 외부 자기장이 없는 상태에서도 자화되는 물질의 자기적 성질을 말. 물리학에서는 자성을 여러가지 종류로 분. 그 중에서도 강자성은 가장 세기가 센 종류이.
기판
의 다른 뜻은 다음과 같.
스퍼터링
일반적인 스퍼터링 시스템 스퍼터링(Sputtering)은 집적회로 생산라인 공정에서 많이 쓰이는 진공 증착법의 일종으로 비교적 낮은 진공도에서 플라즈마를 이온화된 아르곤 등의 가스를 가속하여 타겟에 충돌시키고, 원자를 분출시켜 웨이퍼나 유리 같은 기판상에 막을 만드는 방법을 뜻. 스퍼터링 장비에서는 타겟쪽을 음극(Cathode)로 하고 기판쪽을 양극(Anode).
장력
이 줄의 끝부분은 줄다리기를 하는 사람들을 오른쪽으로 잡아당기고 있다. 줄의 각 부분은 이웃한 두 부분을 장력으로 잡아당기고 있다. 줄다리기를 하는 사람들이 줄을 잡는것처럼, 장력은 줄의 길이에 따라 달라질 수 있다. 물리학에서 장력(tension)은 끈, 체인, 막대 등 1차원적 1차원 연속체의 한 점에 걸리는 힘이.
인라인
인라인의 다른 뜻은 다음과 같.
정확도와 정밀도
정확도(正確度, accuracy)는 과학, 산업, 공업, 통계학 분야에서 재거나 계산된 양이 실제값과 얼만큼 가까운지를 나타내는 기준이며, 관측의 정교성이나 균질성과는 무. 그러나 착오와 정오차가 제거된 경우, 정밀도를 정확도의 척도로 사용할 수 있. 왜냐하면 현실적으로는 실제값을 정확하게 알 수 없기 때문이.
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태양 전지
양 전지판 태양 전지(太陽電池) 또는 광전지는 태양 에너지를 전기 에너지로 변환할 수 있는 장치를 말. PN 접합면을 가지는 반도체 접합 영역에 금지대폭보다 큰 에너지의 빛이 조사되면 전자와 정공이 발생하여 접합영역에 형성된 내부전장이 전자는 N형 반도체로, 정공은 P형 반도체로 이동시켜 기전력이 발생.
수축
수축은 다음을 가리.
선형
선형(宣炯, 1434년 ~ 1479년)은 조선의 무신이.
세라믹
청자 세라믹스(ceramics) 또는 세라믹은 열과 냉각 활동으로 마련된 무기 화합의, 비금속 고체이.
센티미터
센티미터(기호: cm)는 1 미터의 100분의 1에 해당하는 길이의 단위이.
화학기상증착
화학기상증착(CVD, chemical vapor deposition)은 반도체 제조 공정중의 한 단계로 화학 물질을 플라즈마 및 열을 이용하여 박막을 형성, 메탈라인 isolation 혹은 그외 다른 목적의 isolation을 목적으로 하는 공정을 말. 분류:표면처리 분류:반도체.
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