화학기상증착

화학기상증착(CVD, chemical vapor deposition)은 반도체 제조 공정중의 한 단계로 화학 물질을 플라즈마 및 열을 이용하여 박막을 형성, 메탈라인 isolation 혹은 그외 다른 목적의 isolation을 목적으로 하는 공정을 말. 분류:표면처리 분류:반도체.

3 처지: 반도체, 박막, 플라스마.

반도체

반도체(半導體)는 열 등의 에너지를 통해 전도성을 급격하게 변화시킬 수 있는 고체 물질이.

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박막

박막(薄膜, Thin film)은 기계가공으로는 만들 수 없는, 두께가 μm 이하인 얇은 막을 의미.

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플라스마

플라스마 램프(Plasma Lamp) 안에서 만들어지는 플라스마. 플라스마()는 물리학이나 화학 분야에서 디바이 차폐(Debye sheath)를 만족하는 이온화된 기체를 말. 자유 전하로 인해 플라스마는 높은 전기전도도를 가지며, 전자기장에 대한 매우 큰 반응성을 갖. 우주에 존재하는 물질의 99%가 플라스마로 이루어져 있. 물리적으로, 플라스마는 전기전도도를 가지는 전하를 띤 입자들의 집합체로, 외부 전자기장에 집합적으로 반응.

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